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半导体制造行业应用

为半导体制造工艺提供精确、稳定的高纯度气体流量控制和监测，确保芯片制造过程中的工艺重复性和良品率。

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半导体制造中的精密流体控制

半导体制造工艺对流体控制的精度和可靠性要求极高，任何微小的偏差都可能导致产品良率下降。我们的解决方案专门针对半导体行业的特殊需求设计，确保在超纯水、特种气体和化学药液的输送与计量中达到最高标准。

从晶圆清洗到蚀刻、CMP到薄膜沉积，我们的产品在半导体制造的各个环节都发挥着关键作用，帮助客户提高生产效率、降低运营成本并确保产品质量。

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半导体制造

挑战与解决方案

针对半导体制造中的关键挑战，我们提供专业的流体测量与控制解决方案

行业挑战

  • 超纯水测量精度不足

    传统流量计无法满足超纯水的高精度测量要求，导致晶圆清洗工艺不稳定

  • 特种气体流量控制困难

    高纯度、腐蚀性特种气体的精确计量和控制是半导体工艺的难点

  • 化学药液配比精度要求高

    化学机械抛光(CMP)和蚀刻工艺对药液配比精度要求极高

  • 高温高压工况下的稳定性

    部分半导体工艺需要在高温高压环境下运行，对设备稳定性要求极高

我们的解决方案

  • 高精度超纯水流量计

    采用特殊材料和设计，确保超纯水测量精度达到±0.5%

  • 特种气体质量流量控制器

    耐腐蚀设计，适用于各种特种气体，控制精度高达±1%

  • 精密计量泵系统

    高精度计量泵确保化学药液配比精度，提高工艺一致性

  • 耐高温高压流量设备

    特殊材质和结构设计，确保在极端工况下的长期稳定运行

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我们的工程师将在24小时内联系您，提供专业的产品选型建议和技术支持